Inserto para torneamento tnmg 160404-zef ti1315 - sansui

A montagem é padrão para TNMG 1604. O cuidado extra com geometrias de acabamento como ZEF está na limpeza do assento do porta-inserto: qualquer cavaco ou sujeira na sede altera microscopicamente o posicionamento da aresta, o que em passes de acabamento fino pode significar diferença de alguns mícrons na posição radial da ponta. Limpar o assento com ar comprimido e verificar que o parafuso de fixação não tem desgaste excessivo é boa prática obrigatória para acabamento.

Sim, é o mais indicado desta linha para esse objetivo. A geometria ZEF com raio 0,4 mm permite avanços muito baixos sem formação de cavaco longo incontrolável, e o substrato PVD mantém a aresta afiada necessária para atingir Ra ≤ 1,6 µm em inoxidável. O raio 0,4 mm é adequado — um raio maior (0,8 mm) produziria rugosidade menor em altos avanços, mas para avanços de acabamento fino o raio menor com geometria ZEF entrega resultado mais controlado.

O OP1215 (equivalente ao TI1315) posiciona-se como substrato de cobertura PVD com índice '15' — dureza moderada a alta, resistente ao desgaste abrasivo em condições de corte estáveis a levemente variáveis. É adequado para aços inoxidáveis e materiais ISO M, justamente onde a geometria ZEF de corte positivo se beneficia de um substrato que mantém aresta dura para preservar a qualidade de acabamento até o fim da vida. Substratos de índice '25' (mais tenazes) poderiam causar desgaste de flanco mais rápido em altas velocidades de acabamento.

O sufixo 'ZEF' na nomenclatura SANSUI identifica uma geometria de acabamento fino com perfil positivo extremo, desenvolvida para passes de corte muito leves (ap < 1,0 mm) com baixo avanço, priorizando acabamento superficial. É a geometria de maior rake desta família, o que reduz as forças de corte e o calor gerado — ideal para torneamento de peças que não toleram distorção térmica ou que exigem Ra baixo no último passe. A desvantagem é a aresta mais delicada que as geometrias MA, TM e MS.